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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA COM ASSENTO DUPLO

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU8501845

Type

Utility Model

Filing

08/29/2005

Publication

01/31/2006

Progress at the INPI

  1. Filing08/29/05
  2. Publication01/31/06
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 08/29/2005 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/27/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Indústria e Comércio Hidromar LTDA.

PR, BR

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Inventors

M. F. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÃO INTRODUZIDA EM VÁLVULA COM ASSENTO DUPLO". Tendo corpo em peça única (1) definido por dois setores de diferentes diâmetros (2-3), cada qual com uma sede de vedação (7-16), onde atual elementos obturadores (8-15) e respectivas molas (9-18), de modo que quando a pressão do fluxo de entrada de água (13) é superior em relação a pressão da mola (18), consequentemente o disco de vedação (15) é deslocado no sentido de se afastar da sede (16) e, nesta condição, a água flui passando por entre as colunetas (17) e segue o seu caminho, entretanto, nesta primeira condição de funcionamento, a pressão acima do disco de vedação é menor que abaixo do mesmo, porém, se por qualquer motivo fluxo de água não conseguir continuar no sentido da seta (A), a pressão nesta região começa a aumentar e, com isso, abre a segunda válvula definido pela arruela de vedação (8), fazendo com que a vedação no assento (7). No assento duplo, está introduzida uma rosca interna (14), cuja finalidade é de introduzir um parafuso comum para sacar o mesmo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

10/27/2009

RPI 2025

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

08/04/2009

RPI 2013

Publicação antecipada

#3.2

01/31/2006

RPI 1830

Pedido de patente depositado

#2.1

10/18/2005

RPI 1815

Patent monitoring

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