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Official data from INPI

SISTEMA DE MONITORAÇÃO, REGISTRO E CONTROLE DE DENSIDADE CT/CTA 2000

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8400547

Type

Utility Model

Filing

02/11/2004

Publication

09/20/2005

Progress at the INPI

  1. Filing02/11/04
  2. Publication09/20/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 01/18/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Cortel Comércio e Representações Ltda

RS, BR

Inventors

L. B. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"SISTEMA DE MONITORAÇÃO, REGISTRO E CONTROLE DE DENSIDADE CT/CTA 2000". Patente de Modelo de Utilidade que é compreendido por um cabeçote de prensagem onde são fixados a tangente e normais à superfície inferior sensores de esforço de prensagem dimensionados de acordo com o esforço máximo produzido pelo sistema de prensagem em número condizente com a necessidade do monitoramento. Os sinais elétricos produzidos na prensagem são convertidos em sinais digitais de rede RS 485 que são enviados até um conversos de sinal de RS 485 para RS 232C, que decodifica para linguagem compatível para o computador supervisório, que processa os dados, armazena-os, compara-os com os padrões já definidos e determina a correção da distribuição do material a ser prensado através dos atuadores por meio de sinais remotos enviados de um Controlador Lógico Programável (CLP).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 da RPI 2025 de 27/10/2009.

01/18/2011

RPI 2089

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 5º anuidade.

10/27/2009

RPI 2025

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/20/2005

RPI 1811

Pedido de patente depositado

#2.1

07/27/2004

RPI 1751

Patent monitoring

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