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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO APLICADA EM COLETOR DE RESÍDUOS E PÓS PROVENIENTES DE FURAÇÕES

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8000619

Type

Utility Model

Filing

04/06/2000

Publication

12/04/2001

Progress at the INPI

  1. Filing04/06/00
  2. Publication12/04/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/06/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

J. P. (pessoa física)

SP, BR

M. M. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

J. P. (pessoa física)

BR

M. M. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÃO APLICADA EM COLETOR DE RESÍDUOS E PÓS PROVENIENTES DE FURAÇÕES". Refere-se o presente objeto a um coletor de resíduos e pó provenientes de furações efetuadas com máquinas furadeiras e similares, através de um produto descartável ou não, confeccionado preferencialmente em papel que permita armazenar resíduos e pó de tijolo, pintura, massa madeira e outros resíduos, provido de um formato inicialmente retangular com um recorte postado sobre a lateral superior, possuindo dobras laterais permitindo que esta base, forme um compartimento inferior ao abrir-se as laterais demarcadas. Na sua face traseira, encontra-se partes aderentes com cola adesiva, facilitando a fixação e retirada do coletor sob o local indicado da furação.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1871 de 14/11/2006.

12/06/2011

RPI 2135

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente á 5ª , 6ª e 7ª anuidades.

11/14/2006

RPI 1871

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: José Renato Pereira

09/23/2003

RPI 1707

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/04/2001

RPI 1613

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

Patent monitoring

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