Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
03/28/2000
RPI 1525
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/07/1994 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/28/2000. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
G. C. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
G. C. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
Patente de Modelo de Utilidade: "RÉGUA MÉTRICA COM SISTEMA DE MEDIÇÃO IMPRESSO EM BAIXO RELEVO", caracterizado por ser fabricada em material plástico ou combinações de materiais que permitem obter um produto transparente, resistente e flexível, podendo ser brancas ou coloridas e possuir impressão do sistema métrico em baixo relevo (1) o qual é conseguido mediante a injeção e fundição das réguas nas prensas adequadas, obtendo uma melhor visualização, maior durabilidade devido a não existir desbotoamento da impressão.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1
03/28/2000
RPI 1525
#3.1
11/07/1995
RPI 1301
#2.1
06/07/1994
RPI 1227
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.