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Official data from INPI

PROCESSO DE OBTENÇÃO DE FILMES FINOS IRIDESCENTES E POLICRISTALINOS E COMPOSTOS SÓLIDOS DE OXIDOS TIPO-PEROVSKITA (ABO3 E ABO3-X) A BAIXAS TEMPERATURAS

Arquivada/ExtintaCertificado de Adição

Application data

Number

C10701478

Type

Certificado de Adição

Filing

02/01/2008

Publication

05/12/2009

Progress at the INPI

  1. Filing02/01/08
  2. Publication05/12/09
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/30/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

N. W. (pessoa física)

RS, BR

Inventors

N. W. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

PROCESSO DE OBTENÇÃO DE FILMES FINOS IRIDESCENTES E POLICRISTALINOS E COMPOSTOS SÓLIDOS DE OXIDOS TIPO-PEROVSKITA (ABO~ 3~ E ABO~ 3~.X) A BAIXAS TEMPERATURAS Descreve a presente invenção um processo de obtenção de filmes finos iridescentes (FI) e policristatinos (FP) e compostos sólidos de oxidos tipo-perovskita (ABO~ 3~ e ABO~ 3~.X) com temperaturas de deposição e anelamento inferiores aos métodos conhecidos do estado da técnica e processamento em atmosfera ambiente (1 atm), não necessitando equipamentos especiais para o controle de pressão, tais como bombas de vácuo e fluxo de gases, permitindo a deposição em substratos econômicos tais como vidros comerciais, plásticos, acrílicos e metais, com formação de filmes finos (diâmetro de particula em escala nanométrica) com aderência ao substrato e homogeneidade superficial dentro de padrões de qualidade.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2156 de 02/05/2012.

10/30/2012

RPI 2182

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

05/02/2012

RPI 2156

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/12/2009

RPI 2001

Patent monitoring

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