Application data
Number
202014017806Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/03/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
OXIPRANA INDÚSTRIA QUÍMICA LTDA
PE, BR
Inventors
L. F. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
MÁQUINA DE EIXOS ROTATIVOS REVESTIDOS PARA LIMPEZA OU POLIMENTO DE MATERIAIS MÉTALICOS. O presente modelo de utilidade se refere a uma nova disposição aplicada a uma máquina de eixos rotativos para limpeza, polimento ou qualquer outro tratamento abrasivo de materiais metálicos, como fios, arames, ou semelhantes, dotada de eixos rotativos compreendendo uma superfície limpadora, polidora ou abrasiva e meios para condução contínua e automática do material tratado no processo de galvanização sem chumbo, garantindo melhor limpeza dos materiais metálicos e, consequentemente, melhor galvanização dos mesmos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2523 de 14-05-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
09/03/2019
RPI 2539
#8.6
Referente à 5ª anuidade.
05/14/2019
RPI 2523
#6.6.1
11/06/2018
RPI 2496
#3.1
04/19/2016
RPI 2363
#2.1
09/23/2014
RPI 2281
#2.10
Número de Protocolo 20140022508 em 18/07/2014 04:21(RJ).
08/12/2014
RPI 2275
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