CÂMARA DE REAÇÃO DE EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES E EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES

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Abstract

CÂMARA DE REAÇÃO DE EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES E EQUIPAMENTO DE PROCESSAMENTO DE SEMICONDUTORES. A presente invenção fornece uma câmara de reação de um equipamento de processamento de semicondutores e um equipamento de processamento de semicondutores, relacionada ao campo técnico de equipamentos de fabricação de semicondutores, e foi projetada para solucionar o problema de anéis de vedação facilmente danificados em estruturas de vedação de câmaras de reação existentes. A câmara de reação do equipamento de processamento de semicondutores inclui um tubo de processo, um flange de vedação e um anel de vedação. A parede externa do tubo de processo é provida de uma saliência anular, sendo a superfície da saliência anular próxima à abertura do tubo de processo coplanar com o plano radial onde a abertura se encontra; a flange de vedação é provida em um lado da saliência anular próxima à abertura; o anel de vedação circunda a abertura e é pressionado entre o flange de vedação e a saliência anular; a flange de vedação e o tubo de processo são dispostos de forma relativamente fixa. A presente invenção torna o anel de vedação da estrutura de vedação da câmara de reação menos suscetível a danos.