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SISTEMA A LASER DE ALTA POTÊNCIA PARA FORMAR ZONA DE IRRADIACÃO A LASER COM DIMENSÕES E DISTRIBUIÇÃO DE DENSIDADE DE POTÊNCIA ESPECÍFICAS PARA APLICAÇÕES DE TRATAMENTO TÉRMICO SUPERFICIAL

Em AnáliseInvention PatentPCT · US2024013291

Application data

Number

112025015299

Type

Invention Patent

Filing

01/29/2024

Publication

04/22/2026

PCT

US2024013291

Applicants and inventors

Applicants

I. C. (pessoa física)

US

Inventors

A. D. (pessoa física)

US

A. M. (pessoa física)

US

A. A. (pessoa física)

US

D. J. (pessoa física)

US

M. A. (pessoa física)

US

V. F. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

63/441,520 · 01/27/2023

Abstract

SISTEMA A LASER DE ALTA POTÊNCIA PARA FORMAR ZONA DE IRRADIACÃO A LASER COM DIMENSÕES E DISTRIBUIÇÃO DE DENSIDADE DE POTÊNCIA ESPECÍFICAS PARA APLICAÇÕES DE TRATAMENTO TÉRMICO SUPERFICIAL. A presente invenção refere-se a um sistema a laser de alta potência para tratamento térmico de uma superfície, que é configurado com uma ou mais fontes de laser, que geram os respectivos feixes de origem com as respectivas potências arbitrárias e nos respectivos comprimentos de onda. Os feixes de origem são distribuídos a uma cabeça de laser por respectivos conjuntos de fibras, que têm as respectivas extremidades de saída terminadas dentro da cabeça de laser. Um misturador óptico é montado na cabeça de laser, com sua face de entrada oposta às extremidades de saída dos respectivos conjuntos de fibras que formam conjuntamente a disposição espacial predeterminada. O misturador óptico é configurado para receber os respectivos feixes de saída de origem Rom das respectivas extremidades de fibra de saída, de modo a combinar e moldar os feixes de saída acoplados em pelo menos um feixe de saída do sistema, formando um ponto de feixe com a PDD desejada e a forma desejada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/22/2026

RPI 2885

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/05/2025

RPI 2848

Patent monitoring

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