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Official data from INPI

REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · IB2022058935

Application data

Invention Patent REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS — IPC B09B 3/40
Invention Patent REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS — IPC B09B 3/40. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

112024013491

Type

Invention Patent

Filing

09/21/2022

Publication

01/07/2025

PCT

IB2022058935

Progress at the INPI

  1. Filing09/21/22
  2. Publication01/07/25
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 01/13/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. S. (pessoa física)

RU

D. A. (pessoa física)

AM

M. M. (pessoa física)

RU

Inventors

D. A. (pessoa física)

AM

M. M. (pessoa física)

RU

Technical data

Abstract

REATOR PARA DISPOSITIVO DE ELIMINAÇÃO DE RESÍDUOS. A presente invenção refere-se a dispositivos para eliminação de resíduos nos seus estados sólido, líquido e gasoso, em particular, refere-se a dispositivos para proporcionar eliminação de resíduos por destruição química de plasma. Um efeito técnico obtido pela presente invenção é a implementação de um reator que proporciona a destruição de substâncias orgânicas e inorgânicas de resíduos residenciais sólidos e/ou líquidos. O efeito técnico é obtido por um reator fornecido na forma de uma cavidade fechada tendo um orifício de entrada conectado a um aparelho de alimentação de resíduos e um orifício de saída para saída de produtos gasosos de destruição. As superfícies internas da cavidade são tornadas eletricamente condutoras total ou parcialmente e um eletrodo é inserido no reator. O eletrodo é isolado a partir das superfícies condutoras e conectado a uma fonte de pulsos de alta tensão, e o tamanho da lacuna entre o eletrodo e as superfícies condutoras da cavidade proporciona a formação de correntes de plasma por descarga de corona.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2855 de 23-09-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

01/13/2026

RPI 2871

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

09/23/2025

RPI 2855

15.9

Perda da prioridade 2021140063 (RU) pela não apresentação de cópia do correspondente documento de cessão no prazo legal de 60 (sessenta) dias da petição de Entrada na Fase nacional do Brasil conforme os Art. 16 § 6° da Lei nº 9.279/1996 e Art 19 da Portaria/INPI/nº 39/2021, uma vez que depositante da fase nacional do PCT é distinto daquele que depositou a prioridade reivindicada.

01/14/2025

RPI 2819

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

01/07/2025

RPI 2818

Exigências diversas

#1.5

Apresentar, em até 60 (sessenta) dias, a tradução simples da folha de rosto da certidão de depósito da prioridade RU 2021140063 de 30/12/2021 ou declaração contendo, obrigatoriamente, todos os dados identificadores desta conforme o Art. 15 da Portaria 39/2021. A tradução apresentada não possui todos os dados identificadores necessários.

10/01/2024

RPI 2804

Alteração de dados cadastrais

#1.1

07/09/2024

RPI 2792

Patent monitoring

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