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Official data from INPI

BATERIA DE CHUMBO-ÁCIDO BIPOLAR

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2021032702

Application data

Number

112023004630

Type

Invention Patent

Filing

09/06/2021

Publication

04/11/2023

PCT

JP2021032702

Progress at the INPI

  1. Filing09/06/21
  2. Publication04/11/23
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/03/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.

JP

THE FURUKAWA BATTERY CO., LTD.

JP

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Inventors

A. K. (pessoa física)

JP

H. T. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

Y. N. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2020-165685 · 09/30/2020

Abstract

BATERIA DE CHUMBO-ÁCIDO BIPOLAR. Uma bateria de chumbo-ácido bipolar é fornecida na qual é menos provável que o eletrólito infiltre na interface entre uma camada de chumbo de eletrodo positivo e uma camada adesiva, a deterioração no desempenho de bateria é menos provável de ocorrer. Um eletrodo positivo (120) de um eletrodo bipolar (130) de uma bateria de chumbo-ácido bipolar (1) inclui uma camada de chumbo de eletrodo positivo (101) que é formada de chumbo ou liga de chumbo e é disposta em uma superfície de um substrato (111), e uma camada adesiva (140) que é disposta entre a uma superfície do substrato (111) e a camada de chumbo de eletrodo positivo (101) e cola a uma superfície do substrato (111) e a camada de chumbo de eletrodo positivo (101). O substrato (111) é formado por uma resina termoplástica e a camada adesiva (140) é formada por um produto curado de um adesivo de tipo cura por reação que é curado por uma reação entre um agente principal contendo uma resina epóxi e um agente de cura contendo um composto de amina. Mesmo em um caso onde a camada adesiva (140) é imersa em um ácido sulfúrico com uma concentração de 38% em massa a uma temperatura de 60°C por quatro semanas, o ácido sulfúrico não se infiltra na interface entre a camada de chumbo de eletrodo positivo (101) e a camada adesiva (140).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

12/03/2024

RPI 2813

Parecer de pré-exame

#6.23

08/20/2024

RPI 2798

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/11/2023

RPI 2727

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/21/2023

RPI 2724

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