Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
04/04/2023
RPI 2726
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Official data from INPI
IMPLANTES E SISTEMAS PARA MASTOPEXIA SEM CICATRIZ
Em AnáliseInvention PatentPCT · US2021049418
Application data
Number
112023004367Type
Invention Patent
Filing
09/08/2021
Publication
04/04/2023
PCT
US2021049418 Progress at the INPI
- Filing09/08/21
- Publication
- Examination
- Allowance
- Grant
- In force
The application was filed at the INPI on 09/08/2021. It awaits formal examination and publication in the RPI gazette.
Latest action published by the INPI: 04/04/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
TEPHA, INC.
US
Inventors
B. N. (pessoa física)
US
S. W. (pessoa física)
US
S. L. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
63/076,182 · 09/09/2020
Abstract
IMPLANTES E SISTEMAS PARA MASTOPEXIA SEM CICATRIZ.A presente invenção se refere a implantes de mastopexia para levantar a mama de uma paciente criando novos planos de tecido na mama que proporcionam uma elevação mais durável e são particularmente úteis na elevação de mamas com alto teor de tecido adiposo. Os implantes podem ser implantados através de incisões perfurantes usando dissecção romba, reduzindo o tempo de operação e proporcionando uma aparência estética aprimorada com formação mínima de cicatriz. Os implantes são projetados para serem transitórios e têm retenção de força suficiente para permitir que os novos planos de tecido se formem e sustentem a mama levantada sem qualquer perda significativa de suporte durante este período regenerativo.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Alteração de dados cadastrais
#1.1
03/21/2023
RPI 2724
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