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Official data from INPI

APARELHO DE PURIFICAÇÃO QUE PURIFICA CRISTAIS, MÉTODO PARA PRODUZIR UM COMPOSTO E MÉTODO PARA PURIFICAR UM COMPOSTO

ConcedidaInvention PatentPCT · JP2021033034

Application data

Number

112023004299

Type

Invention Patent

Filing

09/08/2021

Publication

04/04/2023

PCT

JP2021033034

Progress at the INPI

  1. Filing09/08/21
  2. Publication04/04/23
  3. Examination
  4. Allowance10/01/24
  5. Grant11/12/24
  6. In force09/08/41

The patent was granted on 11/12/2024 and is in force until 09/08/2041. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:09/08/2041

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Latest action published by the INPI: 11/12/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.

JP

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Inventors

H. W. (pessoa física)

JP

M. M. (pessoa física)

JP

Y. T. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2020-153286 · 09/11/2020

JP

2021-001398 · 01/07/2021

Abstract

APARELHO DE PURIFICAÇÃO. A presente invenção refere-se a um método para a obtenção de produtos de alta qualidade. O aparelho de purificação de acordo com a presente invenção serve para a purificação de cristais. O aparelho de purificação é configurado para incluir: uma coluna de lavagem hidráulica provida com uma porta de descarga para uma pasta circulante que inclui cristais e uma porta de retorno para um líquido circulante descarregado que inclui um líquido em fusão de cristais; uma tubulação para introduzir uma pasta que contém cristais na coluna de lavagem hidráulica; um filtro para filtrar a pasta que contém cristais na coluna de lavagem hidráulica; uma tubulação que é conectada ao filtro e que serve para a descarga de um licor mãe; e um equipamento para fundir os cristais incluídos na pasta circulante descarregada através da porta de descarga. A distância entre uma extremidade inferior do filtro e uma altura média da superfície inferior da coluna de lavagem hidráulica é de 1.000 mm ou mais.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 08/09/2021, observadas as condições legais

11/12/2024

RPI 2810

Deferimento

#9.1

10/01/2024

RPI 2804

Parecer de pré-exame

#6.23

05/14/2024

RPI 2784

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/04/2023

RPI 2726

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/21/2023

RPI 2724

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