PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATO NANORREVESTIDO

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Abstract

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATO NANORREVESTIDO. A presente invenção é dirigida a um processo para a fabricação de um substrato nanorrevestido à base de polpa compreendendo as etapas de: a) fornecer uma suspensão compreendendo polpa, a referida polpa possuindo valor Schopper Riegler de pelo menos 70°; b) usar a suspensão da etapa a) para formar uma trama úmida; c) desidratar e/ou secar a trama úmida para formar um substrato; d) adicionar uma primeira camada de uma solução de monômero acrílico compreendendo menos de 2% em peso de água à superfície do substrato, seguida de cura por radiação da primeira camada; e) adicionar, opcionalmente, uma segunda camada compreendendo uma solução de monômero acrílico à superfície da primeira camada curada e curando a segunda camada por radiação; f) fornecer um nanorrevestimento à superfície da primeira ou segunda camada curada, de modo que um nanorrevestimento com uma espessura na faixa de 0,1 nm a 100 nm seja fornecido ao substrato.