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Official data from INPI

MÉTODO PARA PRODUZIR UM GÁS E DISPOSITIVO DE PRODUÇÃO DE GÁS

ConcedidaInvention PatentPCT · EP2020080069

Application data

Number

112022007815

Type

Invention Patent

Filing

10/26/2020

Publication

07/05/2022

PCT

EP2020080069

Progress at the INPI

  1. Filing10/26/20
  2. Publication07/05/22
  3. Examination
  4. Allowance01/27/26
  5. Grant03/31/26
  6. In force10/26/40

The patent was granted on 03/31/2026 and is in force until 10/26/2040. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:10/26/2040

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Applicants and inventors

Applicants

MEMBION GMBH

DE

Inventors

D. V. (pessoa física)

DE

K. V. (pessoa física)

DE

Technical data

Priority claims

DE

10 2019 129 074.0 · 10/28/2019

Abstract

MÉTODO PARA PRODUZIR UM GÁS E DISPOSITIVO DE PRODUÇÃO DE GÁS.A presente invenção fornece um método para introduzir um gás (1) em um líquido (2), o método compreendendo: encher um volume de gás (6) arranjado abaixo de uma superfície (4) do líquido (2) e definido em uma direção para baixo por um nível (5) do líquido (2) com o gás (1) em pulsos sequenciais em que o gás (1) simultaneamente desloca o líquido (2) do topo para a base a partir de um canal de elevação de gás (14, 25, 30, 46, 57, 70) até o nível (5) cair abaixo de uma seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) de um canal de saída do fluxo de gás (13, 29, 42, 53, 73); subsequentemente fluir o gás (1) para fora do volume de gás (6) para baixo através do canal de elevação de gás (14, 25, 30, 46, 57, 70), uma parte de deflexão (11, 45, 56, 71) adjacente a uma base do canal de elevação de gás, na direção para cima através da seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) e através de um canal de saída do fluxo de gás (13, 29, 42, 53, 73) adjacente à seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) em um topo até a superfície (4), em que um fluxo de bloqueio (18) do líquido flui através de uma entrada de compensação (17, 21, 33, 48, 62, 75) abaixo da entrada de elevação de gás (16, 32, 60, 69) até a seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) e é puxado ao longo pelo gás (1) até o líquido (2) encher a parte de deflexão (11, 45, 56, 71) e, desse modo, fecha a seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) para o gás (1). A invenção também se refere a um dispositivo de introdução de gás (3) incluindo uma cavidade de coleta de gás aberta para baixo (7) para realizar o método de acordo com a invenção. A fim de garantir que o dispositivo de introdução de gás pulse de uma maneira estável em uma ampla faixa de variação da alimentação do fluxo do volume de gás, é proposto um método em que o gás (1) inicialmente flui apenas através do canal de saída de gás (13, 29, 42, 53, 73) depois que o nível (5) tiver caído abaixo da seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72) até o nível (5) subir acima da entrada de compensação (17, 21, 33, 48, 62, 75), e, apenas então, o fluxo de bloqueio (18) corre através da entrada de compensação (17, 21, 33, 48, 62, 75) até a seção transversal de entrada (12, 24, 43, 55, 72).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 26/10/2020, observadas as condições legais

03/31/2026

RPI 2882

Deferimento

#9.1

01/27/2026

RPI 2873

Parecer de pré-exame

#6.23

04/09/2024

RPI 2779

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/05/2022

RPI 2687

Alteração de dados cadastrais

#1.1

05/03/2022

RPI 2678

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