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Official data from INPI

COMPONENTE DE NITRETO DE GÁLIO E CIRCUITO DE ACIONAMENTO DO MESMO

ArquivadaInvention PatentPCT · CN2020085612

Application data

Number

112022007532

Type

Invention Patent

Filing

04/20/2020

Publication

07/12/2022

PCT

CN2020085612

Progress at the INPI

  1. Filing04/20/20
  2. Publication07/12/22
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/20/2020 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/26/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

HUAWEI TECHNOLOGIES CO., LTD.

CN

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Inventors

B. H. (pessoa física)

CN

Q. J. (pessoa física)

CN

Z. H. (pessoa física)

CN

Technical data

IPC Classification

Abstract

COMPONENTE DE NITRETO DE GÁLIO E CIRCUITO DE ACIONAMENTO DO MESMO. Este pedido fornece um componente de nitreto de gálio e um circuito de acionamento do mesmo. O componente de nitreto de gálio inclui: um substrato; uma camada de buffer de nitreto de gálio GaN formada sobre o substrato; uma camada de barreira de nitreto de gálio de alumínio AlGaN formada sobre a camada de buffer de GaN; e uma fonte, um dreno e uma porta formados sobre a camada de barreira de AlGaN. A porta inclui uma camada de cobertura de nitreto de gálio P-dopado P-GaN formada sobre a camada de barreira de AlGaN, e um primeiro metal de porta e um segundo metal de porta formados sobre a camada de cobertura de P-GaN. Um contato de Schottky é formado entre o primeiro metal de porta e a camada de cobertura de P-GaN, e um contato ôhmico é formado entre o segundo metal de porta e a camada de cobertura de P-GaN. Na solução técnica fornecida neste pedido, o componente de nitreto de gálio é um componente normalmente desligado, e é propício para projeto de um circuito de acionamento. Além disso, o componente de nitreto de gálio tem uma estrutura de porta híbrida que inclui uma porta de Schottky e uma porta ôhmica, de maneira que não apenas correntes de fuga de porta em um processo de condução possam ser reduzidas para reduzir consumo de energia de acionamento, mas também uma grande quantidade de buracos de elétrons pode ser injetada na camada de barreira de AlGaN durante condução para otimizar uma resistência dinâmica, aperfeiçoando deste modo confiabilidade de componente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

09/26/2023

RPI 2751

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

07/11/2023

RPI 2740

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/12/2022

RPI 2688

Alteração de dados cadastrais

#1.1

05/03/2022

RPI 2678

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