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Official data from INPI

SISTEMAS E MÉTODOS PARA ALTERAR A ROTAÇÃO DE UM SISTEMA DE FABRICAÇÃO ROTACIONAL SOLAR

ConcedidaInvention PatentPCT · US2020019693

Application data

Number

112022000983

Type

Invention Patent

Filing

02/25/2020

Publication

07/02/2024

PCT

US2020019693

Progress at the INPI

  1. Filing02/25/20
  2. Publication07/02/24
  3. Examination
  4. Allowance03/24/26
  5. Grant04/07/26
  6. In force02/25/40

The patent was granted on 04/07/2026 and is in force until 02/25/2040. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:02/25/2040

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Latest action published by the INPI: 04/07/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

K. K. (pessoa física)

US

N. D. (pessoa física)

US

Inventors

K. K. (pessoa física)

US

N. D. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

16/285,127 · 02/25/2019

Abstract

SISTEMAS E MÉTODOS PARA ALTERAR A ROTAÇÃO DE UM SISTEMA DE FABRICAÇÃO ROTACIONAL SOLAR. A presente invenção refere-se a um sistema de fabricação rotacional solar que tem um dispositivo de monitoramento, um controlador, um heliostático que tem um controlador de heliostático, um aparelho rotacional que tem um controlador de rotação e um molde, em que o dispositivo de monitoramento é configurado para coletar dados reais em relação a uma característica do sistema de aquecimento rotativo solar e transmitir dados reais para o controlador, o controlador é configurado para receber um parâmetro de referência, um parâmetro interferente e instruções sobre relação, receber dados reais provenientes do dispositivo de monitoramento, comparar os dados reais com um parâmetro de referência, determinar um parâmetro interferente a ser alterado e transmitir instruções de alteração para o controlador de heliostático e/ou controlador de rotação, o controlador de heliostático é configurado para receber as instruções de alteração provenientes do controlador e executar as instruções de alteração, e o controlador de rotação é configurado para receber as instruções de alteração provenientes do controlador e executar as instruções de alteração.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 25/02/2020, observadas as condições legais

04/07/2026

RPI 2883

Deferimento

#9.1

03/24/2026

RPI 2881

6.9

Anulada a publicação código 6.1 na RPI nº 2867 de 16/12/2025 por ter sido indevida.

12/30/2025

RPI 2869

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/16/2025

RPI 2867

Republicação - classificação IPC

#15.11

As Classificações Anteriores eram: B29C 41/52 , B29C 41/04 , B29C 41/06 , G05B 19/418

12/09/2025

RPI 2866

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/09/2025

RPI 2866

Parecer de pré-exame

#6.23

10/29/2024

RPI 2808

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/02/2024

RPI 2791

Exigências diversas

#1.5

Apresente a tradução simples da folha de rosto da certidão de depósito da prioridade US 16/285,127 de 25/02/2019 ou declaração contendo, obrigatoriamente, todos os dados identificadores desta conforme o parágrafo único do Art. 15 da Portaria/INPI/nº 39/2021. A exigência deve ser respondida em até 60 (sessenta) dias de sua publicação e deve ser realizada por meio da petição GRU código de serviço 207.

05/07/2024

RPI 2783

104

Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida. [104]

03/19/2024

RPI 2776

12.6

Recurso: 870220051119 - 10/06/2022

06/21/2022

RPI 2685

1.4.1

Conforme o Art. 24 § 1º da Portaria INPI nº 39, considera-se que o pedido de devolução de prazo não poderá ser atendido por estar em desacordo com a legislação vigente, não estando o requerimento devidamente instruído, uma vez que o depositante não expôs nem comprovou os motivos do atraso no ato do requerimento de entrada na fase nacional conforme determinado na legislação. (Vide parecer)

04/19/2022

RPI 2676

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/25/2022

RPI 2664

Patent monitoring

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