Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
09/12/2023
RPI 2749
Application data
Number
112021018407Type
Filing
Publication
PCT
DK2020050068 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/18/2020 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
LEITHA CLEAN TECHNOLOGIES A/S
DK
Inventors
C. L. (pessoa física)
DK
D. G. (pessoa física)
DK
Priority claims
DK
PA 2019 00338 · 03/19/2019
Abstract
COMPOSIÇÃO LÍQUIDA, MÉTODO PARA COMBATER SUJEIRAS, MICRORGANISMOS E ODORES, MÉTODO PARA PRODUZIR A COMPOSIÇÃO E USO DA MESMA.Um revestimento fotocatalítico transparente para a geração in situ de radicais livres que combatem micróbios, odores e compostos orgânicos à luz visível é revelado, caracterizando um material catalítico compreendendo um dopante e tendo distribuição de tamanho de partícula adequada para confinamento de éxciton para mudar cumulativamente o processo fotocatalítico na faixa de luz visível. Além disso, a presente invenção caracteriza um método para produzir o material fotocatalítico descrito na presente invenção. Além disso, a presente invenção revela um método de aplicação do revestimento fotocatalítico a uma superfície de um local. Finalmente, a presente invenção caracteriza o uso do revestimento fotocatalítico para remover contaminantes e microrganismos no local.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
09/12/2023
RPI 2749
#11.1
06/27/2023
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#1.3
11/23/2021
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#1.1
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