Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 22/03/2020, observadas as condições legais
03/10/2026
RPI 2879
Application data
Number
112021014209Type
Filing
Publication
PCT
US2020024093 The patent was granted on 03/10/2026 and is in force until 03/22/2040. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:03/22/2040
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Applicants
GRANBIO INTELLECTUAL PROPERTY HOLDINGS, LLC
US
Inventors
K. N. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/795,277 · 01/22/2019
Abstract
SISTEMA DE DESIDRATAÇÃO DE PASTA DE NANOCELULOSE, E MÉTODO PARA DESIDRATAR UMA PASTA DE NANOCELULOSE. A presente invenção permite a produção de nanocelulose na forma seca, permitindo a incorporação em uma ampla variedade de aplicações finais. Algumas variações fornecem um sistema de desidratação de pasta de nanocelulose compreendendo: um subsistema de alimentação de pasta de nanocelulose; uma unidade de pré-concentração (por exemplo, uma centrífuga) para remover pelo menos uma porção da água da pasta de nanocelulose; uma entrada para um agente de dispersão/secagem; uma extrusora de dupla rosca em comunicação de fluxo com o subsistema de alimentação de pasta de nanocelulose, em que a extrusora de dupla rosca mistura intimamente a pasta de nanocelulose e o agente de dispersão/secagem, em que a extrusora de dupla rosca cisalha a pasta de nanocelulose e em que a extrusora de dupla rosca é configurada com uma ou mais aberturas de extrusora para remover a água da pasta de nanocelulose; e uma saída da extrusora para recuperar um concentrado de dispersão de nanocelulose. Um dispositivo de moagem pode ser empregue para gerar um pó fino do concentrado de dispersão de nanocelulose. Métodos de fabricação e uso da nanocelulose desidratada ou seca também são descritos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 22/03/2020, observadas as condições legais
03/10/2026
RPI 2879
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