Alteração de sede deferida
#25.7
06/23/2026
RPI 2894
Application data
Number
112021000775Type
Filing
Publication
PCT
US2019042491 The INPI issued a technical opinion on patentability. The applicant must respond for examination to continue.
Latest action published by the INPI: 06/23/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
I. C. (pessoa física)
US
Inventors
A. K. (pessoa física)
US
G. A. (pessoa física)
US
I. Y. (pessoa física)
US
V. V. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/700,019 · 07/18/2018
Abstract
''MÉTODO E APARELHO PARA LITOTRIPSIA A LASER''. A presente invenção refere-se a método e aparelho ( apparatus (sistema e dispositivos)) para litotripsia a laser de pulso formado para prover uma alta taxa de ablação enquanto também minimizando a retropulsão dos produtos de ablação. Um método e sistema de laser para tratar cálculos em um corpo humano ou animal, compreende: um laser emitindo uma sequência de pulsos de laser, o laser sendo operável em um regime de amplitude-modulação no qual os pulsos de laser são emitidos: em uma frequência de pulso constante, e com uma potência de pico ou energia de pulso periodicamente variável ou potência de pico e energia de pulso com um período de modulação de amplitude Na igual ao número de pulsos em um grupo de pulsos de amplitude periódica.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#25.7
06/23/2026
RPI 2894
#6.23
09/16/2025
RPI 2854
#1.3.1
Fica retificada a RPI 2623 de 13/04/2021 com relação ao item 54 da mesma
07/09/2024
RPI 2792
#1.3
04/13/2021
RPI 2623
#1.1
01/26/2021
RPI 2612
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.