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Official data from INPI

PROCESSO DE ATOMIZAÇÃO DE PLASMA E APARELHO PARA PRODUZIR PÓS METÁLICOS

Em AnáliseInvention PatentPCT · CA2019000081

Application data

Number

112020024844

Type

Invention Patent

Filing

06/06/2019

Publication

03/02/2021

PCT

CA2019000081

Progress at the INPI

  1. Filing06/06/19
  2. Publication03/02/21
  3. Examination
  4. Refused02/10/26
  5. Grant
  6. In force

The application was refused on 02/10/2026 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/10/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

PYROGENESIS CANADA INC.

CA

Inventors

C. D. (pessoa física)

CA

F. P. (pessoa física)

CA

P. C. (pessoa física)

CA

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

62/681,623 · 06/06/2018

Abstract

Um aparelho para a produção de pós metálicos a partir de fio de alimentação inclui uma tocha de plasma e pelo menos um fio adaptado para ser alimentado no aparelho. Enquanto um arco é diretamente transferido ao(s) fio(s) para derreter o fio, a tocha de plasma produz um jato de plasma que atomiza o fio fundido em partículas, e uma câmara de resfriamento a jusante solidifica as partículas em pós. Um arco elétrico é gerado entre dois fios alimentados continuamente em frente ao jato de plasma supersônico, onde a corrente é fornecida por duas ou mais fontes de alimentação conectadas em paralelo, onde pelo menos uma fonte de alimentação é configurada para controle por voltagem e pelo menos uma fonte de alimentação é configurada para controle por corrente. Esta configuração elétrica permite a produção de pós finos e esféricos mesmo sob taxas de produção muito altas, o que permite uma proporção gás-metal muito menor. Nesse aparelho, um fio serve como ânodo e o outro como um cátodo. Em outro aparelho, o fio serve como um cátodo com a tocha de plasma. Em ainda outro aparelho, um arco é transferido entre um eletrodo da tocha e do fio, que é alimentado para fora da tocha, mas dentro do invólucro do aparelho.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

111

Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]

02/10/2026

RPI 2875

121

Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]

12/02/2025

RPI 2865

Petição de recurso

#12.2

Recurso: 870240012752 - 15/2/2024

02/27/2024

RPI 2773

Indeferimento

#9.2

12/12/2023

RPI 2762

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

08/22/2023

RPI 2746

Parecer de pré-exame

#6.23

01/17/2023

RPI 2715

Adição na publicação

#15.35

12/14/2021

RPI 2658

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/02/2021

RPI 2617

Alteração de dados cadastrais

#1.1

12/15/2020

RPI 2606

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