Indeferimento
#9.2
04/24/2024
RPI 2781
Application data
Number
112020004480Type
Filing
Publication
PCT
US2018022694 The application was refused by the INPI on 04/24/2024. The invention was never patented.
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Applicants
QUANTUM INNOVATIONS, INC.
US
Inventors
C. V. (pessoa física)
US
N. H. (pessoa física)
US
N. K. (pessoa física)
US
R. U. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
15/832,137 · 12/05/2017
US
62/557,093 · 09/11/2017
Abstract
Trata-se de um material de absorção de luz visível de alta energia (HEV) para um substrato oftálmico e aplicação através de deposição física de vapor. O material de absorção de luz HEV é depositado sobre o substrato oftálmico, como uma lente óptica. O material de absorção de luz HEV é aplicado através de deposição física de vapor. O material de absorção de luz HEV é aplicado como uma camada fina sobre substratos oftálmicos para flexibilidade e adaptação de cor. O material de absorção de luz HEV inclui pelo menos um dentre: óxido de zinco e alumínio, óxido de zinco e índio e óxido de zinco e gálio com um material comumente usado no projeto de materiais de absorção antirreflexivos. O revestimento de absorção de luz HEV é antirreflexivo e transmite até 98% de luz para o restante do espectro. O material de absorção de luz HEV permite que o substrato oftálmico absorva seletivamente a luz azul incluída faixa de comprimento de onda de cerca de 400 nm a cerca de 460 nm, de modo que o fluxo de luz azul para as estruturas internas do olho seja reduzido.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#9.2
04/24/2024
RPI 2781
#7.1
01/02/2024
RPI 2765
#6.23
08/29/2023
RPI 2747
#15.35
11/23/2021
RPI 2655
#1.3
09/08/2020
RPI 2592
#1.1
03/17/2020
RPI 2567
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