Adição na publicação
#15.35
10/19/2021
RPI 2650
Application data
Number
112019020910Type
Filing
Publication
PCT
US2018026143 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/04/2018 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
CLEANLOGIX LLC
US
Inventors
D. J. (pessoa física)
US
M. J. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
15/945,698 · 04/04/2018
US
62/481,575 · 04/04/2017
Abstract
Um aparelho de aplicação por pulverização eletrostática e método para produzir uma mistura para pulverização de compósito de CO2 homogêneo e eletrostaticamente carregado contendo um aditivo e simultaneamente projetar em uma superfície de substrato. A mistura de pulverização é formada no espaço entre bocais de mistura de CO2 e de aditivo e uma superfície de substrato. A mistura de pulverização é um fluido compósito tendo uma densidade de pulverização aérea e radial controlada de modo variável compreendendo gás propelente com regulação de pressão e temperatura (ar comprimido), partículas de CO2, e partículas de aditivo. Existem duas ou mais correntes de ar circunferenciais com velocidade elevada contendo partículas de CO2 passivamente carregadas que estão posicionadas simetricamente no eixo e coaxialmente em torno de uma corrente de ar interna de injeção com velocidade inferior contendo um ou mais aditivos para formar um grupamento de pulverização. As correntes de ar-partículas de CO2 simétricas no eixo são passivamente eletrizadas por contato durante formação, e a disposição do grupamento de pulverização cria um campo eletrostático significativo e fluxo de massa de ar tipo Coanda entre e circundando as correntes de fluxo coaxiais.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
10/19/2021
RPI 2650
#11.1.1
09/28/2021
RPI 2647
#11.1
07/13/2021
RPI 2636
#1.3
04/28/2020
RPI 2573
#1.1
10/15/2019
RPI 2545
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