Petição de recurso
#12.2
Recurso: 870240001145 - 5/1/2024
01/16/2024
RPI 2767
Application data
Number
112019005093Type
Filing
Publication
PCT
US2017045966 The application is under appeal: the INPI has yet to review the decision.
Latest action published by the INPI: 01/16/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Q. I. (pessoa física)
US
Inventors
C. Y. (pessoa física)
US
D. Y. (pessoa física)
US
J. X. (pessoa física)
US
K. R. (pessoa física)
US
S. S. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
15/271,043 · 09/20/2016
Abstract
Um método de produzir um dispositivo FinFET com passo de aleta menor que 20 nm é apresentado. De acordo com algumas modalidades, aletas são depositadas em espaçadores de parede lateral, que eles próprios são depositados em mandris. Os mandris podem ser formados por processos litográficos enquanto as aletas e espaçadores de parede lateral formados por tecnologias de deposição.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#12.2
Recurso: 870240001145 - 5/1/2024
01/16/2024
RPI 2767
#9.2
12/05/2023
RPI 2761
#7.1
06/06/2023
RPI 2735
#6.23
07/12/2022
RPI 2688
#15.35
09/21/2021
RPI 2646
#1.3
06/04/2019
RPI 2526
#1.1
03/26/2019
RPI 2516
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