Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 25/08/2017, observadas as condições legais
09/02/2025
RPI 2852
Application data
Number
112019002028Type
Filing
Publication
PCT
US2017048639 The patent was granted on 09/02/2025 and is in force until 08/25/2037. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:08/25/2037
Latest action published by the INPI: 09/02/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
ECOLAB USA INC.
US
Inventors
D. H. (pessoa física)
US
J. L. (pessoa física)
US
K. O. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/380143 · 08/26/2016
Abstract
São descritas composições de espargimento melhoradas para separação de flotação de espuma reversa e seus usos e métodos de flotação de espuma reversa. As composições de espargimento compreendem modificadores poliméricos sulfonados que podem agir como dispersantes e depressores e as composições são adequadamente utilizadas na flotação de espuma reversa de material particulado contendo partículas ultrafinas. Por exemplo, as composições e os métodos podem ser utilizados na separação de beneficiário de óxido de ferro de minérios de ferro compreendendo sílica, silicatos e semelhantes.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 25/08/2017, observadas as condições legais
09/02/2025
RPI 2852
Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100.1]
07/22/2025
RPI 2846
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]
04/01/2025
RPI 2830
#12.2
Recurso: 870230014042 - 16/02/2023
03/28/2023
RPI 2725
#9.2
12/20/2022
RPI 2711
#7.1
07/19/2022
RPI 2689
#15.35
09/21/2021
RPI 2646
#6.23
07/27/2021
RPI 2638
#1.3
05/14/2019
RPI 2523
#1.1
02/12/2019
RPI 2510
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