COMPOSIÇÃO DE RESINA FOTOCURÁVEL LÍQUIDA PARA ESTEREOLITOGRAFIA, USO DE UM COMPOSTO R4O-CO-NH-R2-NH-CO-O-R1-O-CO-NH-R3-NH-CO-OR4 (I), ARTIGO TRIDIMENSIONAL E MÉTODO PARA PRODUZI-LO ATRAVÉS DE ESTEREOLITOGRAFIA

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção se refere a uma composição de resina fotocurável líquida para estereolitografia, compreendendo (i) pelo menos um composto polimerizável por radical (A) representado pela seguinte fórmula geral (I): R4O-CO-NH-R2-NH-CO-O-R1-O-CO-NH-R3-NH-CO-OR4 (I), em que R1 é um resíduo de politetrametileno glicol linear ou ramificado com um peso molecular médio de 200 a 3.000 g/mol; R2 é um resíduo de composto de di-isocianato; R3 é um resíduo de composto de di-isocianato igual ou diferente de R2; e R4 é selecionado dentre AcrO-CH2-CH2-, (AcrO-CH2)2CH-, (AcrO-CH2)3C-CH2-, AcrO-CH2?CHCH3?, AcrO-CH2-CHC2H5- e (AcrO-CH2)2C(C2H5)CH2-, preferencialmente dentre AcrO-CH2-CH2- e (AcrO-CH2)2CH-, mais preferencialmente é AcrO-CH2-CH2-; em que Acr é CH2=C(R)-CO- e R é um átomo de hidrogênio ou um grupo metila; (ii) pelo menos um composto orgânico radicalmente polimerizável (B) diferente do composto (A); e (iii) um inicializador de polimerização radicalar fotossensível (C), em que o teor de dito composto polimerizável por radical (A) varia de 5% a 70% em peso com base na quantidade total dos compostos (A) e (B). A invenção descreve adicionalmente um uso e método estereolitográfico correspondente e artigos tridimensionais produzidos com a mesma.