Application data
Number
112018006527Type
Filing
Publication
PCT
US2016054490 The patent was granted on 11/17/2020 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/27/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
J. C. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
NANOVAPOR INC.
US
Inventors
J. C. (pessoa física)
US
L. J. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/235,223 · 09/30/2015
Abstract
METODOS E COMPOSIÇOES PARA A SUPRESSAO DE VAPOR A presente invenção refere-se à supressão de vapor dos líquidos através da colocação de uma camada de tensoativo sobre as superfícies dos líquidos para os tensoativos tendo uma densidade maior do que o líquido e independentemente de problemas de espalhabilidade de tensão superficial, e composições compreendendo os tensoativos na forma aerificada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.6
Extinção da patente por falta de pagamento da retribuição anual, por pagamento da retribuição anual fora do prazo ou por não cumprimento de exigência de complementação de pagamento da retribuição anua
02/27/2024
RPI 2773
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 29/09/2016, observadas as condições legais
11/17/2020
RPI 2602
#9.1
08/25/2020
RPI 2590
#6.21
03/24/2020
RPI 2568
#6.6.1
12/24/2019
RPI 2555
#4.3
12/17/2019
RPI 2554
#11.1
10/15/2019
RPI 2545
#1.3
12/11/2018
RPI 2501
#1.1
07/24/2018
RPI 2481
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