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Official data from INPI

SUBSTRATO DE POLÍMERO COM CAMADA DE REVESTIMENTO DURO, E, MÉTODO PARA PRODUZIR O SUBSTRATO DE POLÍMERO COM CAMADA DE REVESTIMENTO DURO.

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2016078127

Application data

Number

112018005528

Type

Invention Patent

Filing

09/23/2016

Publication

12/04/2018

PCT

JP2016078127

Progress at the INPI

  1. Filing09/23/16
  2. Publication12/04/18
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/12/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

TEIJIN LIMITED

JP

TSUKISHIMA KIKAI CO., LTD.

JP

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Inventors

H. K. (pessoa física)

JP

M. N. (pessoa física)

JP

S. O. (pessoa física)

JP

T. S. (pessoa física)

JP

T. K. (pessoa física)

JP

T. E. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2015-189003 · 09/25/2015

Abstract

A presente invenção fornece um substrato de polímero com uma camada de revestimento duro exibindo excelente resistência ambiental e resistência ao desgaste. Um substrato de polímero (60) tem de 1 a 20 mm de espessura e uma camada de revestimento duro (70, 80) sobre a superfície do mesmo compreende: uma subcamada curada (70) com uma espessura de 1 a 20 mm, e incluindo 10 a 90 partes em peso de um acrilato multifuncional, e 90 a 10 partes em peso de partículas finas de óxido inorgânico e/ou um condensado hidrolítico de composto de silício; e uma camada de óxido de silício (80) que está em contato direto com a subcamada curada, é formada pela PE-CVD com um composto de organossilício como o material iniciador, e satisfaz todas as seguintes condições de (a) a (c): (a) a espessura de película da camada de óxido de silício é de 3,5 a 9,0 mm; (b) a profundidade de indentação máxima da superfície da camada de óxido de silício pela medição da nanoindentação em uma carga máxima de l mN é de 150 nm ou menos; e (c) a razão de compressão limite K da camada de óxido de silício é de no máximo 0,975 em um teste de flexão de 3 pontos do substrato de polímero com uma camada de revestimento duro tendo sido submetida à deformação por indentação que faz com que a superfície sobre a qual a camada de óxido de silício é depositada em camada seja indentada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

04/12/2022

RPI 2675

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/28/2021

RPI 2660

Exigência preliminar

#6.21

03/10/2020

RPI 2566

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/04/2018

RPI 2500

Exigências diversas

#1.5

10/02/2018

RPI 2491

Alteração de dados cadastrais

#1.1

04/03/2018

RPI 2465

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