Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/25/2019
RPI 2529
Application data
Number
112017019369Type
Filing
Publication
PCT
US2016024287 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/25/2016 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/25/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
VISION EASE, LP
US
Inventors
G. C. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
K. E. (pessoa física)
US
M. M. (pessoa física)
US
M. B. (pessoa física)
US
S. G. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
62/138,921 · 03/26/2015
Abstract
SUPORTE DE LENTE OFTÃLMICA PARA DEPOSIÃÃO DE VAPOR FÃSICO. Um sistema e método para revestir uma lente ótica, por exemplo, por meio de deposição de vapor, os quais empregam um alojamento ou tambor tendo uma pluralidade de aberturas em que cada uma recebe uma montagem de suporte de lente. A montagem de retenção de lente configurada para reter lentes áticas não cortadas, padronizadas ou peças brutas de lentes ou, alternativamente, para reter lentes óticas modeladas edimensionadas não cortadas padronizadas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
06/25/2019
RPI 2529
#11.1
04/09/2019
RPI 2518
#1.3
07/03/2018
RPI 2478
#1.1
06/19/2018
RPI 2476
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.