FONTE DE PLASMA DE CÁTODO OCO

IPC Classification

Abstract

A presente invenção refere-se a uma fonte de plasma de cátodo oco e a métodos para tratamento de superfície ou revestimento utilizando tal fonte de plasma, compreendendo o primeiro e segundo eletrodos (1, 2), compreendendo cada eletrodo uma cavidade alongada (4), caracterizados pelo fato que as dimensões para pelo menos um dos seguintes parâmetros são selecionadas de modo a assegurar uma elevada densidade eletrônica e/ou baixa quantidade de pulverização das superfícies da cavidade da fonte de plasma, sendo esses parâmetros o formato da seção transversal da cavidade, a distância da cavidade da área da seção transversal da cavidade (11) e a largura do bico de saída (12).