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Official data from INPI

DISPOSITIVO PARA PROJEÇÃO DE MÁSCARA DE FEIXES DE LASER DE FEMTOSSEGUNDOS E PICOSSEGUNDOS EM UMA SUPERFÍCIE DE SUBSTRATO

ExtintaInvention PatentPCT · IB2015053494

Application data

Number

112016024485

Type

Invention Patent

Filing

05/12/2015

Publication

08/15/2017

PCT

IB2015053494

Progress at the INPI

  1. Filing05/12/15
  2. Publication08/15/17
  3. Examination
  4. Allowance05/10/22
  5. Grant07/12/22
  6. Terminated07/08/25

The patent was granted on 07/12/2022 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/08/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

BOEGLI-GRAVURES S.A.

CH

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Inventors

A. K. (pessoa física)

DE

A. E. (pessoa física)

DE

C. B. (pessoa física)

CH

G. R. (pessoa física)

DE

M. P. (pessoa física)

DE

M. K. (pessoa física)

CH

S. W. (pessoa física)

DE

Technical data

Priority claims

EP

14167931.6 · 05/12/2014

Abstract

DISPOSITIVO PARA PROJEÇÃO DE MÁSCARA DE FEIXES DE LASER DE FEMTOSSEGUNDOS E PICOS-SEGUNDOS COM UMA LÂMINA, UMA MÁSCARA E SISTEMAS DE LENTES.Dispositivo para a projeção de máscara de feixes de laser de femtossegundos ou picossegundos (2) sobre uma superfície de substrato, no qual o feixe de laser (2) consistindo em pulsos de feixe de laser é, em uma localização do eixo óptico, formado para produzir pulsos de feixe de laser com uma seção transversal de feixe de laser expandida ou pulsos de feixe de laser com uma seção transversal de feixe de laser reduzida, o feixe de laser (2) apresentando uma distribuição de intensidade homogênea sobre a seção transversal de feixe de laser. Um diafragma (6) e uma mascara (7) com uma geometria de abertura de diafragma e mascara predeterminada respectivamente são posicionados em sucessão na trajetória do feixe (2) no local. O dispositivo contém um sistema de lentes de campo (8) e uma lente de imagem (10), posicionados de tal maneira que os componentes de feixe não difratados e difratados dos pulsos do feixe de laser (2) transmitidos pelo diafragma (6) e pela máscara (7) sejam dirigidos para a lente de imagem (10) com uma abertura predeterminada com o auxílio do sistema de lentes de campo (8), em que uma imagem reduzida, precisa em cada detalhe, do perfil de intensidade gerado pelo diafragma (6) e a pela máscara (7) seja gerada sobre a seção transversal de feixe de laser dos pulsos de feixe de laser no plano de imagem.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2827 de 11-03-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/08/2025

RPI 2844

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 10ª anuidade.

03/11/2025

RPI 2827

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 12/05/2015, observadas as condições legais

07/12/2022

RPI 2688

Deferimento

#9.1

05/10/2022

RPI 2679

Adição na publicação

#15.35

08/03/2021

RPI 2639

Exigência preliminar

#6.21

04/28/2020

RPI 2573

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

08/15/2017

RPI 2432

Alteração de dados cadastrais

#1.1

11/01/2016

RPI 2391

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