EQUIPAMENTO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS COM RADIAÇÃO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

RESUMO "EQUIPAMENTO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS COM RADIAÇÃO", por tratar a presente invenção de um equipamento para o tratamento de substratos com radiação, que compreende pelo menos uma fonte de radiação localizada em uma câmara acima dos suportes para os substratos para o carregamento dos substratos a serem tratados, sendo que a câmara compreende meios para manter um fluxo de gás na câmara, os mencionados meios tendo pelo menos uma entrada de gás e pelo menos uma saída de gás, caracterizado pelo fato de que a pelo menos uma entrada de gás encontra-se localizada na região dos suportes para os substratos, de tal maneira que o gás fluindo através da pelo menos uma entrada de gás flua primeiramente em torno dos suportes para os substratos antes de sair novamente do interior da câmera através da saída de gás, ou diretamente e/ou após fluir em torno da pelo menos uma fonte de radiação. 1/1