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Official data from INPI

MÉTODO PARA PROCESSAR UM INVÓLUCRO DE DISPOSITIVO, INVÓLUCRO DE DISPOSITIVO, E, DISPOSITIVO

ArquivadaInvention PatentPCT · CN2015093415

Application data

Number

112016004900

Type

Invention Patent

Filing

10/30/2015

Publication

08/01/2017

PCT

CN2015093415

Progress at the INPI

  1. Filing10/30/15
  2. Publication08/01/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 10/30/2015 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/12/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

XIAOMI INC.

CN

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Inventors

G. W. (pessoa física)

CN

S. Z. (pessoa física)

CN

X. S. (pessoa física)

CN

Z. L. (pessoa física)

CN

Technical data

IPC Classification

Priority claims

CN

201510128804.4 · 03/23/2015

Abstract

São descritos um invólucro de dispositivo e um método para processar o mesmo, assim como um dispositivo, permitindo que o invólucro de dispositivo seja de uma aparência uniforme como um todo. O método inclui: aplicar uma camada de tinta sobre uma camada de filme para formar uma membrana; aderir a membrana a uma superfície interna do invólucro, a camada de tinta da membrana estando em contato com a superfície interna; e remover a camada de filme da membrana aderida à superfície interna, de modo que a superfície interna é aderido com a camada de tinta. Com o método, a superfície interna pode ser aderida com a camada de tinta como requerido, permitindo que a superfície interna do invólucro de dispositivo exiba uma aparência uniforme como um todo, independentemente do material ou do formato do invólucro de dispositivo, e deste modo satisfazendo várias exigências em texturas e materiais, bem como melhorando a estética.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

02/12/2019

RPI 2510

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

11/27/2018

RPI 2499

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

08/01/2017

RPI 2430

Alteração de dados cadastrais

#1.1

11/01/2016

RPI 2391

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