Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
02/12/2019
RPI 2510
Application data
Number
112016004900Type
Filing
Publication
PCT
CN2015093415 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 10/30/2015 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
XIAOMI INC.
CN
Inventors
G. W. (pessoa física)
CN
S. Z. (pessoa física)
CN
X. S. (pessoa física)
CN
Z. L. (pessoa física)
CN
IPC Classification
Priority claims
CN
201510128804.4 · 03/23/2015
Abstract
São descritos um invólucro de dispositivo e um método para processar o mesmo, assim como um dispositivo, permitindo que o invólucro de dispositivo seja de uma aparência uniforme como um todo. O método inclui: aplicar uma camada de tinta sobre uma camada de filme para formar uma membrana; aderir a membrana a uma superfície interna do invólucro, a camada de tinta da membrana estando em contato com a superfície interna; e remover a camada de filme da membrana aderida à superfície interna, de modo que a superfície interna é aderido com a camada de tinta. Com o método, a superfície interna pode ser aderida com a camada de tinta como requerido, permitindo que a superfície interna do invólucro de dispositivo exiba uma aparência uniforme como um todo, independentemente do material ou do formato do invólucro de dispositivo, e deste modo satisfazendo várias exigências em texturas e materiais, bem como melhorando a estética.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
02/12/2019
RPI 2510
#11.1
11/27/2018
RPI 2499
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
08/01/2017
RPI 2430
#1.1
11/01/2016
RPI 2391
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