Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 15/02/2013, observadas as condições legais
12/28/2021
RPI 2660
Application data
Number
112015019593Type
Filing
Publication
PCT
IT2013000049 The patent was granted on 12/28/2021 and is in force until 02/15/2033. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:02/15/2033
Latest action published by the INPI: 12/28/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
DAITECH S.A.
CH
TECNOLOGICA S.A.S. DI VANELLA SALVATORE & C.
IT
TECNOLOGICA S.A.S. DI VANELLA SIMONE & C.
IT
Inventors
V. S. (pessoa física)
IT
Abstract
DISPOSITIVO DE FILTRAÃÃO DE MATERIAL PARTICULADO PARA GASES DE COMBUSTÃO, GASES DE EXAUSTÃO E SIMILARES, E CIRCUITO DE SAÃDA ASSOCIADO.A presente invenção está correlacionada a um dispositivo de filtração de material particulado, para gases de exaustão, gases de combustão e similares, compreendendo um dispositivo de confinamento (2) que pode ser disposto ao longo de um circuito de saÃda (3) de um fluxo de gases de exaustão, gases de combustão e similares, antes da liberação dos mesmos para o ambiente externo. O dispositivo de confinamento (2) define um duto interno (4) que pode ser atravessado pelo fluxo e afetado por uma placa condutora perfurada (5), mantida em um potencial elétrico negativo, para a emissão e dispersão no duto (4) de elétrons que possam ser acoplados à s partÃculas poluentes (B) que são levadas pelo fluxo e que constituem substancialmente o material particulado, consequentemente, proporcionando à s mesmas uma carga elétrica negativa. Ao longo do duto (4), a jusante da placa perfurada (5), se dispõe pelo menos uma placa de acúmulo (6), mantida em um potencial elétrico positivo para a atração e adesão estável de partÃculas eletricamente carregadas (B) na placa de acúmulo (6). O dispositivo de filtração compreende pelo menos um filamento condutor (7), mantido em um potencial elétrico negativo, que se defronta e se dispõe próximo de pelo menos uma respectiva abertura (8) da placa perfurada (5), a fim de definir uma fonte primária de emissão e dispersão de elétrons, que pode ser acoplada à s partÃculas (B) que são levadas pelo fluxo, substancialmente próxima ao seu cruzamento com a abertura (8).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 15/02/2013, observadas as condições legais
12/28/2021
RPI 2660
#9.1
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RPI 2650
#6.21
03/24/2020
RPI 2568
#25.1
08/13/2019
RPI 2536
#6.6.1
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#25.4
02/27/2018
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#1.3
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#1.1
02/21/2017
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