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PROCESSOS COMBINADOS DE DECAPAGEM QUÍMICA E ELETROQUÍMICA PARA A GERAÇÃO DE PARTICULADOS DE SILÍCIO POROSO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2014010438

Application data

Number

112015016296

Type

Invention Patent

Filing

01/07/2014

Publication

07/11/2017

PCT

US2014010438

Progress at the INPI

  1. Filing01/07/14
  2. Publication07/11/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/20/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

L. C. (pessoa física)

US

W. U. (pessoa física)

US

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Inventors

M. T. (pessoa física)

US

M. W. (pessoa física)

US

S. B. (pessoa física)

US

S. S. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

61/749.636 · 01/07/2013

Abstract

RESUMOPROCESSOS COMBINADOS DE DECAPAGEM QUÍMICA E ELETROQUÍMICA PARA A GERAÇÃO DE PARTICULADOS DE SILÍCIO POROSOAs modalidades da presente invenção se referem a processos de preparação de particulados de silício poroso por: (a) decapar eletroquimicamente um substrato de silício, onde a decapagem eletroquímica compreende a exposição do substrato de silício a uma densidade de corrente elétrica, e onde a decapagem eletroquímico produz uma película de silício poroso sobre o substrato de silício; (b) separar a película de silício poroso do substrato de silício, onde a separação compreende um aumento gradual da densidade de corrente elétrica em incrementos sequenciais; (c) repetir as etapas (a) e (b) uma pluralidade de vezes; (d) decapar eletroquimicamente o substrato de silício de acordo com a etapa (a) para produzir uma película de silício poroso sobre o substrato de silício; (e) decapar quimicamente a película de silício poroso e o substrato de silício; e (f) dividir a película de silício poroso e o substrato de silício para formar particulados de silício poroso. Outras modalidades da presente revelação se referem a particulados de silício poroso formados e materiais anódicos que os contêm.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2443 de 31-10-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

02/20/2018

RPI 2459

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

10/31/2017

RPI 2443

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

07/11/2017

RPI 2427

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/18/2015

RPI 2328

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