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APARELHO E MÉTODO PARA O REVESTIMENTO POR PLASMA DE UM SUBSTRATO, EM PARTICULAR DE UMA PLACA DE PRENSA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · AT2013050152
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Application data

Number

112015002657

Type

Invention Patent

Filing

08/06/2013

Publication

07/04/2017

PCT

AT2013050152
View on INPI

Progress at the INPI

  1. Filing08/06/13
  2. Publication07/04/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/28/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

B. A. (pessoa física)

AT

BERNDORF HUECK BAND - UND PRESSBLECHTECHNIK GMBH

AT

BERNDORF INNOVATIONS UND TECHNOLOGIE GMBH

AT

Inventors

A. G. (pessoa física)

AT

D. H. (pessoa física)

AT

H. S. (pessoa física)

AT

J. L. (pessoa física)

AT

M. P. (pessoa física)

AT

O. S. (pessoa física)

AT

T. M. (pessoa física)

AT

Technical data

IPC Classification

B30B 15/06C23C 16/50C23C 16/52H01J 37/32

Priority claims

AT

A 877/2012 · 08/08/2012

Abstract

APARELHO E MÉTODO PARA O REVESTIMENTO POR PLASMA DE UM SUBSTRATO, EM PARTICULAR DE UMA PLACA DE PRENSA. A invenção diz respeito a um aparelho (100 .. 103) para o revestimento por plasma de um substrato (2), em particular de uma placa de prensa, que compreende uma câmara de vácuo (3) e, montado em tal câmara, um eletrodo (400 . .409), que é segmentado, em que cada um dos segmentos de eletrodo (500 .. 512) tem uma conexão dedicada (6) para uma fonte de energia elétrica (700 .. 702). Também é proporcionado um método para o funcionamento do referido aparelho (100 .. 103), em que um substrato (2) a ser revestido é colocado em função do referido eletrodo (400 . .409) e de pelo menos uma fonte de energia (700 .. 706), que é atribuída a um segmento de eletrodo (500 .. 512), é ativada. Além do mais, é introduzido um gás, com o efeito de proporcionar uma deposição de vapor químico assistida por plasma sobre o substrato (2 )

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2631 de 08-06-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

09/28/2021

RPI 2647

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 8ª anuidade.

06/08/2021

RPI 2631

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

05/25/2021

RPI 2629

Exigência preliminar

#6.21

01/07/2020

RPI 2557

Transferência deferida

#25.1

11/19/2019

RPI 2550

Alteração de nome deferida

#25.4

10/29/2019

RPI 2547

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2426 em relação ao item (72).

07/30/2019

RPI 2534

6.9

Anulada a publicação código 6.6.1 na RPI nº 2462 de 13/03/2018 por ter sido indevida.

03/20/2018

RPI 2463

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

03/13/2018

RPI 2462

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

03/06/2018

RPI 2461

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

07/04/2017

RPI 2426

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/24/2017

RPI 2403

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