SUPORTE PARA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, PRECURSOR DA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO SUPORTE PARA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA

IPC Classification

Priority claims

Abstract

RESUMOSUPORTE PARA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO, BEM COMO DA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA ORIGINAL"O objetivo da presente invenção é fornecer um suporte para uma chapa de impressão litográfica. O suporte tem excelente resistência a riscos e com o suporte, pode ser obtida uma chapa de impressão litográfica original com excelente durabili-dade de impressão, quando utilizada como uma chapa de impressão litográfica, e uma excelente capacidade de revelação na prensa. Para este suporte para chapa de impressão litográfica, que é fornecido com uma chapa de alumínio e uma pelí-cula de alumínio anodizada sobre ele, os microporos na película anodizada se estendem na direção de profundidade a partir da superfície, a qual está no lado oposto da chapa de alumínio. Os microporos estão configurados a partir de uma seção de furo de grande diâmetro, que se estende da superfície da película anodizada até uma profundidade média de 75 a 120 nm (profundidade (a)), e uma seção de furo de pequeno diâmetro, que se conecta com a parte inferior do furo da seção de furo de grande diâmetro e estende-se da posição de conexão até uma profundidade média de 900 a 2.000 nm. O diâmetro médio da superfície da película anodizada da seção de furo de grande diâmetro é de 10 nm, mas menor do que 30 nm, e o diâmetro médio e a profundidade (A) satisfazem a razão (profundidade (A) / diâmetro médio) = maior do que 4,0 a 12,0; e o diâmetro médio na posição de cone-xão da seção dos poros de pequeno diâmetro é maior do que 0 e menor do que 10 nm.