PROCESSO PARA A OBTENÇÃO DE UM SUBSTRATO E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO TÉRMICO DE UM REVESTIMENTO DEPOSITADO SOBRE UM SUBSTRATO

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Abstract

MÃTODO PARA A PRODUÃÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO.O objetivo da invenção é um processo para a obtenção de um substrato fornecido pelo menos com uma porção pelo menos de um dos seus lados com um revestimento, que é constituído por uma etapa de deposição do referido revestimento sobre o referido substrato, e então uma etapa de tratamento térmico do referido revestimento usando-se uma radiação a laser pulsativa ou contínua focada sobre o referido revestimento na forma pelo menos de uma linha a laser, o comprimento do qual está dentro de uma faixa que se estende de 400 a 1500 nm, o referido tratamento térmico sendo tal que é criado um movimento de deslocamento relativo entre o substrato e a ou cada linha a laser, a velocidade do qual é pelo menos 3 m por minuto, ou cada linha a laser tendo um fator de qualidade do feixe (BPP) no máximo de 3 mm.mrad, medido no local onde a ou cada linha a laser é focada sobre o referido revestimento, uma densidade de potência linear dividida pela raiz quadrada do ciclo de trabalho pelo menos do que 200 W/cm, um comprimento pelo menos de 20 mm e uma distribuição de largura ao longo da ou de cada linha tal que a largura média seja pelo menos 30 micrometros e a diferença entre a largura maior e a largura menor seja no máximo 15% do valor da largura média.