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Official data from INPI

MÉTODO PARA TRATAR UM LICOR MÃE SEPARADO DE UM ÁCIDO TEREFTÁLICO PURIFICADO

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2011053701

Application data

Number

112013020492

Type

Invention Patent

Filing

02/21/2011

Publication

10/25/2016

PCT

JP2011053701

Progress at the INPI

  1. Filing02/21/11
  2. Publication10/25/16
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/02/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

HITACHI, LTD

JP

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Inventors

H. Y. (pessoa física)

JP

H. T. (pessoa física)

JE

N. H. (pessoa física)

JP

Technical data

Abstract

MÉTODO PARA TRATAR UM LICOR MÃE SEPARADO DE UM ÁCIDO TEREFTÁLICO PURIFICADO Na presente invenção, uma pasta fluida tereftálica purificada gerada no processo para produzir ácido tereftálico de alta pureza por oxidação na fase líquida e purificação por hidrogenação usando p-xileno como um material de partida é separado em um licor mão primário e cristais primários de ácido tereftálico purificado. Ácido tereftálico, assim como ácido p-toluico e outro material dissolvido são esfriados e precipitados no licor mãe primário separado, e separados por filtração para separar e recuperar cristais de ácido tereftálico de baixa pureza, como uma parte de matéria-prima para a reação de oxidação na fase líquida de p-xileno. Cristais de ácido tereftálico são novamente adicionados ao, e misturados no, licor mãe primário separado, e depois a mistura é alimentada a um tanque de esfriamento ajustado para ter uma pressão reduzida menor que a pressão atmosférica, e esfriada por alívio de pressão, melhorando dessa maneira, a filtrabilidade do material precipitado. A quantidade de material dissolvido residual em um licor mãe secundário também separado por filtração é reduzida.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

Arquive-se por não manifestação da requerente.

10/02/2018

RPI 2491

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

05/22/2018

RPI 2472

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/25/2016

RPI 2390

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/14/2014

RPI 2245

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