Application data
Number
112013018827Type
Filing
Publication
PCT
US2012021527 The application was refused on 02/27/2024 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/27/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
SYNTHES GMBH
CH
Inventors
A. B. (pessoa física)
CH
IPC Classification
Priority claims
US
61/437,182 · 01/28/2011
Abstract
DISPOSITIVO DE ALINHAMENTO PARA O DIRECIONAMENTO DISTAL. A presente invenção refere-se a um dispositivo para alinhar um orifÃcio direcionador de um dispositivo direcionador com um orifÃcio de travamento de uma haste intramedular. O dispositivo inclui uma unidade de detecção dimensionada e conformada para inserção através de um orifÃcio direcionador de um dispositivo direcionador que pode ser ligado a uma haste intramedular. A unidade de detecção detecta um campo magnético produzido por um Ãmã e produz um sinal de alinhamento com base em um parâmetro de campo magnético no primeiro e no segundo locais em relação ao Ãmã.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Prejudicado o recurso publicado na RPI 2671 de 15/03/2022, por perda de objeto, já que o pedido foi definitivamente arquivado por falta de pagamento de retribuição anual, sendo a notificação de tal ato efetuada na RPI 2772 de 20/02/2024. [130]
02/27/2024
RPI 2773
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2757 de 07-11-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
02/20/2024
RPI 2772
#8.6
Referente à 12ª anuidade.
11/07/2023
RPI 2757
#12.2
Recurso: 870220017924 - 3/03/2022
03/15/2022
RPI 2671
#9.2
01/18/2022
RPI 2663
#7.1
06/15/2021
RPI 2632
#15.35
06/01/2021
RPI 2630
#7.1
02/23/2021
RPI 2616
07/07/2020
RPI 2583
#6.21
09/24/2019
RPI 2542
#6.6.1
12/18/2018
RPI 2502
#1.3
06/13/2017
RPI 2423
#1.1
05/23/2017
RPI 2420
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