PROCESSO DE MÁSCARA COM O USO DE FILMES COM REDUÇÃO DE BIRREFRINGÊNCIA ESPACIALMENTE SELETIVA

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Abstract

ARTIGO E MÃTODO PARA FABRICAÃÃO DE UM FILME DOTADO DE UM PADRÃO.A presente invenção refere-se a certos fiimes reflexivos que podem ser dotados de padrão que são usados como máscaras para fabricar outros artigos dotados de um padrão, e uma ou mais máscaras iniciais podem ser usadas para dotar de um padrão os filmes reflexivos que podem ser dotados de padrão. Um filme reflexivo que pode ser dotado de padrão exemplificador tem uma característica de absorção adequada para, quando da exposição a um feixe radiante, aquecer uma porção do filme absortivamente em uma 10 quantidade suficiente para alterar a primeira característica reflexiva para uma segunda característica reflexiva diferente. A mudança da primeira para a segunda característica reflexiva é atribulvel a uma alteração na birrefringência de uma ou mais camadas ou materiais do filme que pode ser dotado de padrão. Em um artigo relacionado, uma máscara é fixada a tal filme reflexivo que pode ser dotado de padrão. A máscara pode ter porções 15 opacas e porções transmissoras de luz. Adicionalmente, a máscara pode ter porções de luz transmissiva com estruturas, como elementos de focalização e/ou elementos prismáticos.