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Official data from INPI

REVESTIMENTO MESO-ESTRUTURADO, SEU PROCESSO DE FABRICAÇÃO E USO

ConcedidaInvention PatentPCT · FR2011051205

Application data

Number

112012031291

Type

Invention Patent

Filing

05/26/2011

Publication

11/01/2016

PCT

FR2011051205

Progress at the INPI

  1. Filing05/26/11
  2. Publication11/01/16
  3. Examination
  4. Allowance10/29/19
  5. Grant12/24/19
  6. In force05/26/31

The patent was granted on 12/24/2019 and is in force until 05/26/2031. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:05/26/2031

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Latest action published by the INPI: 12/24/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Centre National De La Recherche Scientifique (C.N.R.S.)

FR

E. I. (pessoa física)

FR

ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GÉNÉRALE D'OPTIQUE)

FR

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Inventors

C. B. (pessoa física)

FR

J. B. (pessoa física)

FR

J. C. (pessoa física)

FR

S. D. (pessoa física)

FR

S. P. (pessoa física)

FR

T. G. (pessoa física)

FR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

FR

10 54532 · 06/09/2010

Abstract

PROCESSO DE PREPARO À BAIXA TEMPERATURA DE REVESTIMENTOS MESO-ESTRUTURADOS ELETROCONDUTORES. A presente invenção refere-se a um processo de fabricação de revestimentos meso-estruturados, comportando estruturas eletrocondutoras formadas de nanopartículas metálicas, compreendendo as etapas que consistem: a) depositar, sobre um substrato, uma primeira camada de um material, meso-estruturado por um agente estruturante, à base de sílica e de um material fotocatalítico; b) em depositar, sobre a primeira camada, uma segunda camada de um material meso-estruturado à base de sílica, essa segunda camada estando isenta de material fotocatalítico; c) em consolidar a primeira e a segunda camdas, a uma temperatura compreendida entre 50 e 250º C, d) em colocar em contato o revestimento consolidado com uma solução contendo íons metálicos, e em irradiá-lo com uma irradiação, permitindo a ativação do material fotocatalitico, esse processo sendo caracterizado pelo fato de não compreender nenhum tratamento térmico a uma temperatura superior a 250ºC.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 26/05/2011, observadas as condições legais

12/24/2019

RPI 2555

Deferimento

#9.1

10/29/2019

RPI 2547

6.20

03/06/2019

RPI 2513

Transferência deferida

#25.1

08/14/2018

RPI 2484

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/10/2018

RPI 2466

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Retificação do item 54 - título da publicação código 1.3 da RPI 2391 de 1/11/16 conforme solicitação em petição 870180020204 de 13/3/18.

04/03/2018

RPI 2465

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/01/2016

RPI 2391

Alteração de dados cadastrais

#1.1

04/24/2013

RPI 2207

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