COPOLÍMEROS PARA COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTOS SENSÍVEIS À RADIAÇÃO INFRAVERMELHA PRÓXIMA PARA PLACAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA TÉRMICAS DE FUNCIONAMENTO POSITIVO

IPC Classification

Abstract

COPOLÍMEROS PARA COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTOS SENSÍVEIS À RADIAÇÃO INFRAVERMELHA PRÓXIMA PARA PLACAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA TÉRMICAS DE FUNCIONAMENTO POSITIVO. É provido um copolímero tendo a estrutura geral de fórmula I: em que a,b, e d são razões molares que variam entre cerca de 0,01 e cerca de 0,90 e c é uma razão molar que varia entre cerca de 0,01 e cerca de 0,90; A1 representa unidades de monômero compreendendo um grupo pendente contendo ciano no qual o ciano não é anexado diretamente a cadeia principal do copolímero; A2 representa unidades de monômero compreendendo dois ou mais sítios de ligação de hidrogênio; A3 representa unidades de monômero que aumentam a solubilidade em solventes orgânicos; e A4 representa unidades de monômero que aumentam a solubilidade em soluções aquosas alcainas. Também é provida uma composição de revestimento sensível à radiação infravermelha próxima compreendendo este copolímero bem como uma placa de impressão litográfica térmica de funcionamento positivo compreendendo um revestimento sensível à radiação infravermelha próxima compreendendo este copolímero, um método de produzir tal placa de impressão, e finalmente um método de imprimir usando tal placa de impressão.