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Official data from INPI

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DUTO, E SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DURO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2011051126

Application data

Number

112012018293

Type

Invention Patent

Filing

01/21/2011

Publication

06/05/2018

PCT

JP2011051126

Progress at the INPI

  1. Filing01/21/11
  2. Publication06/05/18
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/23/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Asahi Glass Company, Limited

JP

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Inventors

K. Y. (pessoa física)

JP

T. S. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2010-012228 · 01/22/2010

Abstract

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DUTO, E SUBSTRATO DE RESINA TENDO CAMADA DE REVESTIMENTO DURO. A invenção refere-se a um processo para produção de um substrato de resina tendo uma camada de revestimento duto, que é capaz de formar revestimento duto tendo suficiente resistência á abrasão sobre um substrato de resina, e um substrato de resina tendo uma camada de revestimento duto excelente na resistência á abrasão. Um processo para produção de um substrato de resina tendo uma camada de revestimento duro sobre pelo menos um lado de um substrato de resina, compreendendo, na seguinte ordem, uma etapa de aplicação de uma composição de revestimento duro contendo um organopolissiloxano a pelo menos um lado do substrato de resina para formar um filme de revestimento da composição, e então aplicando um primeiro tratamento térmicoaofilme de revestimento para formar um filme curado; uma etapa de irradiação de aplicação de um tratamento de irradiação de luz de excimer de Xe~ 2~ao filme curado em uma atmosfera tendo uma concentração de oxigênio de no máximo 5% em volume; e uma etapa de aplicação de um tratamento de oxidação para filme curado obtido pela etapa de irradiação e então ainda aplicando um segundo tratamento térmico para formar a camada de revestimento duro.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2475 de 12-06-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

10/23/2018

RPI 2494

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 6ª e 7ª anuidades.

06/12/2018

RPI 2475

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/05/2018

RPI 2474

Alteração de dados cadastrais

#1.1

12/18/2012

RPI 2189

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