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Official data from INPI

INTERMEDIÁRIO SINTÉTICO DE COMPOSTO DE OXAZOL E MÉTODO PARA PRODUZIR O MESMO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2011052307

Application data

Number

112012018069

Type

Invention Patent

Filing

01/28/2011

Publication

02/23/2016

PCT

JP2011052307

Progress at the INPI

  1. Filing01/28/11
  2. Publication02/23/16
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/14/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD

JP

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Inventors

A. Y. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

N. U. (pessoa física)

JP

N. F. (pessoa física)

JP

S. A. (pessoa física)

JP

S. O. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2010-019289 · 01/29/2010

Abstract

Patente de Invenção: "INTERMEDIÁRIO SINTÉTICO DE COMPOSTO DE OXAZOL E MÉTODO PARA PRODUZIR O MESMO".A presente invenção refere-se a um método para produzir um composto de oxazol em um alto rendimento.O objetivo pode ser alcançado por um composto representado pela Fórmula (11):>onde R¹ é um átomo de hidrogênio ou grupo alquila inferior;R² é um grupo 1-piperidinila substituído na posição 4 por um substituite selecionado a partir de:(A1a) um grupo fenoxi substituído na porção fenila por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio,(A1b) um grupo alquila inferior substituído por fenóxi substituído na porção fenila por um ou mais grupos alquila inferior substituídos por halogênio,(A1c) um grupo alquila inferior alcóxi inferior substituído por fenila substituído na porção fenila por halogênio,(A1d) um grupo alquila inferior substituído por fenila substituído na porção fenila por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio,(A1e) um grupo amino substituído por um grupo fenila substituído por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio, e um grupo alquila inferior, e(A1f) um grupo alcóxi inferior substituído por fenila substituído na porção fenila por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio;n é um inteiro de 1 a 6; eX³ é um grupo sulfonilóxi orgânico.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2395 de 29-11-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

03/14/2017

RPI 2410

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

11/29/2016

RPI 2395

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/23/2016

RPI 2355

Alteração de dados cadastrais

#1.1

12/18/2012

RPI 2189

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