Application data
Number
112012014900Type
Filing
Publication
PCT
US2010060722 The patent was granted on 09/10/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/10/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
COVESTRO (NETHERLANDS) B.V.
NL
DSM IP ASSETS B.V.
NL
STRATASYS INC.
US
Inventors
J. X. (pessoa física)
US
K. D. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
61/287,620 · 12/17/2009
Abstract
SUBSTRATO BASEADO EM PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE ADITIVO A invenção refere-se a um método baseado no substrato para formar um objeto tridimensional pela fabricação do o aditivo por revestimento de uma resina líquida curável por radiação compreendendo de 30 a 80% em peso de compostos cationicamento curáveis sobre um substrato , contratando a resina líquida curável por radiação com uma amteriormente camada curada, seletivamente expondo a camada da camada de resina líquida curável por radiação à radiação actínica, formando assim uma camada curada, separando a camada curada do substrato, e repetindo os passos em um número suficiente de tempo a fim de construir-se um objeto tridimensional.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2859 de 21-10-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
02/10/2026
RPI 2875
#21.6
Referente à 15ª anuidade.
10/21/2025
RPI 2859
#25.1
09/24/2024
RPI 2803
#25.7
05/10/2022
RPI 2679
#25.1
04/26/2022
RPI 2677
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 16/12/2010, observadas as condições legais
09/10/2019
RPI 2540
#9.1
08/06/2019
RPI 2535
04/24/2019
RPI 2520
#1.3
03/14/2017
RPI 2410
#1.1
11/13/2012
RPI 2184
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