Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: B41M 5/28; B41M 3/14; B42D 15/00; B42D 15/10; C09D 11/00; C09D 11/02.
03/27/2018
RPI 2464
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Official data from INPI
MARCAÇÃO BASEADA EM POLÍMEROS DE CRISTAIS LÍQUIDOS QUIRAIS
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2010056879
Application data
Number
112012013653Type
Invention Patent
Filing
05/19/2010
Publication
04/04/2017
PCT
EP2010056879 Progress at the INPI
- Filing05/19/10
- Publication04/04/17
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants and inventors
Applicants
SICPA HOLDING SA
CH
Inventors
A. C. (pessoa física)
CH
F. G. (pessoa física)
CH
T. T. (pessoa física)
CH
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
61/267,673 · 12/08/2009
Abstract
MARCAÇÃO BASEADA EM POLÍMEROS DE CRISTAIS LÍQUIDOS QUIRAIS. A invenção refere-se a uma marcação de polímero de cristal líquido que pode ser obtida por um processo que compreende a aplicação de uma composição de precursor de cristal líquido quiral a um substrato, o aquecimento da composição de modo a colocar a mesma em um estado de cristal líquido quiral, a aplicação no local de pelo menos um agente modificador para modificar o estado de cristal líquido quiral, e a cura e/ou polimerização do produto resultante.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2414 de 11-04-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
08/01/2017
RPI 2430
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
04/11/2017
RPI 2414
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
04/04/2017
RPI 2413
Alteração de dados cadastrais
#1.1
12/11/2012
RPI 2188
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