Application data
Number
112012009646Type
Filing
Publication
PCT
EP2010066107 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/10/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
B. S. (pessoa física)
DE
Inventors
C. D. (pessoa física)
DE
F. M. (pessoa física)
SE
J. D. (pessoa física)
DE
M. V. (pessoa física)
DE
S. F. (pessoa física)
DE
Priority claims
EP
09174163.7 · 10/27/2009
Abstract
PÓ, PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DO PÓ, USO DO PÓ, E, MOLDE A invenção refere-se a um pó de polioximetilno (POM) para o uso em um processo de sinterização a laser seletivo, que compreende os parâmetros que se seguem: tempo de cristalização isotérmico (a 152 C) > 3 minutos, Mn de 22000-25000 g/mol, Mw de 60000 -14000 g/mol, Mw/Mn de 3-5, MVR de 15-70 [cm^3^/10 minutos], tamanho de partícula médio de d50 a 60 m, e tamanho de partícula de 30-130 m. A invenção refere-se ainda a um método para a produção do mesmo e a partes moldadas produzidas usando o referido pó, por meio de um processo de sinterização a laser seletivo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2384 de 13-09-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
01/10/2017
RPI 2401
#8.6
Referente às 5ª e 6ª anuidades.
09/13/2016
RPI 2384
#1.3
05/17/2016
RPI 2367
#1.1
06/11/2013
RPI 2214
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