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Official data from INPI

SISTEMAS E MÉTODOS DE LIMPEZA DE ÍON FLUORETO INCLUINDO PROCESSAMENTO DE FLUXO DE FLUIDO PÓS-RETORTA

PublicadaInvention Patent

Application data

Number

102024007215

Type

Invention Patent

Filing

04/12/2024

Publication

02/11/2025

Progress at the INPI

Examination not yet requested
  1. Filing04/12/24
  2. Publication02/11/25
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

Examination has not been requested yet. Without that request by 04/12/2027, the application is definitively abandoned (art. 33 of the Brazilian IP Act).

Deadline to request examination:04/12/2027(230 days left)

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Latest action published by the INPI: 02/11/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

GENERAL ELECTRIC TECHNOLOGY GMBH

CH

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Inventors

J. D. (pessoa física)

US

J. L. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

18/307120 · 04/26/2023

Abstract

SISTEMAS E MÉTODOS DE LIMPEZA DE ÍON FLUORETO INCLUINDO PROCESSAMENTO DE FLUXO DE FLUIDO PÓS-RETORTA. Um sistema de limpeza de íon fluoreto (100) inclui uma retorta (102) para limpar pelo menos um componente (106) através de um fluido de trabalho fornecido à retorta, um subsistema pós-retorta (140) para processar um fluxo de fluido pós-retorta que sai da retorta a uma primeira temperatura, e um purificador (134) a jusante do subsistema pós-retorta. O subsistema pós-retorta (140) inclui um separador (142) em comunicação de fluxo com a retorta (102). O separador (142) inclui uma entrada (146) para receber o fluxo de fluido pós-retorta da retorta (102) e uma saída (148) para o fluxo de fluido pós-retorta que sai do separador. O subsistema pós-retorta (140) também inclui um dispositivo de resfriamento (144) para resfriar seletivamente o fluxo de fluido pós-retorta até uma segunda temperatura, sendo que a segunda temperatura é menor que a primeira temperatura. A segunda temperatura permite que o particulado seja separado do fluxo de fluido pós-retorta dentro do separador (142).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/11/2025

RPI 2823

Pedido de patente depositado

#2.1

08/13/2024

RPI 2797

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870240032027' em 12/04/2024 17:00 (WB)

04/24/2024

RPI 2781

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