MÉTODO PARA FABRICAR UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO DE PLASMA INTERNO (PCVD) EM UM TUBO DE SUBSTRATO DE SÍLICA OCO, MÉTODO PARA FORMAR UMA FIBRA ÓPTICA, PRÉ-FORMA PRIMÁRIA E FIBRA ÓPTICA

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Abstract

MÉTODO PARA FABRICAR UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO DE PLASMA INTERNO (PCVD) EM UM TUBO DE SUBSTRATO DE SÍLICA OCO, MÉTODO PARAFORMAR UMA FIBRA ÓPTICA, PRÉ-FORMA PRIMÁRIA E FIBRA ÓPTICA. A presente invenção se refere a um método para fabricar uma pré-forma primária para fibras ópticas por meio de um processo de deposição de vapor químico de plasma interno (PCVD) em um tubo de substrato de sílica oco, em que o dito tubo de substrato tem um lado de fornecimento e um lado de descarga, cujo método compreende depositar camadas de sílica dopadas ou não dopadas na superfície interna do dito tubo de substrato oco fornecendo-se gases de formação de vidro para o interior do tubo de substrato oco por meio do lado de fornecimento do mesmo, e criando-se uma zona de reação de plasma no interior do tubo de substrato oco por meio de radiação de micro-ondas que tem uma potência de micro-ondas, em que a potência de micro-ondas é diminuída durante o depósito. A presente invenção, além disso, se refere a um método para formar uma fibra óptica e à pré-forma primária e fibra óptica diretamente obteníveis pelos ditos métodos.