MÉTODO E APARELHO PARA EXECUTAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO PLASMÁTICO

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Abstract

MÉTODO E APARELHO PARA EXECUTAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO PLASMÁTICO . A invenção refere-se a um método e a um aparelho para executar um processo de deposição de vapor químico plasmático. O aparelho compreende um ressonador principalmente cilíndrico provido de uma parede cilíndrica externa e uma parede cilíndrica coaxial interna, definindo, entre elas, uma cavidade ressonante que é operável a uma frequência operacional. A cavidade ressonante se estende em uma direção circunferencial em torno de um eixo cilíndrico das paredes cilíndricas interna e externa. Além disso, a parede cilíndrica externa inclui uma porta de entrada conectável a um guia de onda de entrada. Além disso, a parede cilíndrica interna inclui seções de fenda que se prolongam em uma direção circunferencial em torno do eixo cilíndrico. Uma maior dimensão que define a abertura das seções de fenda é menor do que a metade do comprimento de onda da frequência operacional.